产品名称：RFS-200
产品型号：RFS-200
上传时间：2012-06-12
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小型高频溅射装置 RFS-200

RFS系列／小型高频溅射装置

特　性 是装载了RF电源的小型高周波溅射装置。因为可以为金属、半导体、绝缘物体成膜，所以最适合用于基础研究开发等实验。   应　用 1. 紧凑且易于移动。 2. TMP 实现高速排气。 3. 可通过流量控制阀连续控制进气 4. 适当的预溅射 5. 自动匹配控制 6. 高精确薄膜

规格参数

型　号		RFS-200
真空性能	极限压力	6.6 × 10-4Pa
	排气时间	6.6 × 10-3Pa/5min
真空舱	真空舱	金属舱 (200mm(W)×250mm(D)×150mm(H))
	阴极	直径80mm 1 电极
	标准基板	直径80mm × t1mm
	溅射有效区域	直径50mm
	溅射速度	SiO2, 成膜速度大于 20nm/min
	膜厚分布	SiO2, 在 ±8%直径50mm
	基板加热	最大 350 ℃
	电极距离	30mm – 60mm (可变)
排气系统	主泵	油扩散泵（水冷） 150 L/sec
	液氮冷阱	可选
	前级泵	油旋片真空泵 100 L/min
	油雾过滤器	油雾过滤器　OMT-100A
操作系统	主阀门	瓣阀
	副阀门	三向切换阀
	自动渗漏阀	可选
	控制	手动控制
控制系统	射频电源	最大 200W (变量: 0 - 200W)
	皮拉尼真空计	G-TRAN
	电离真空计	可选
外形	尺寸	800mm(W) × 725mm(D) × 1635mm(H)
	重量	200kg

条　件

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